真空PVD鍍膜設備

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1. IBS PVD Series
2. 使用高能量離子源(Ion Beam)轟擊成膜
3. 可搭配表面改質、清潔及緻密離子源模組
4.  搭配光學即時監控(Real Time Monitor)反饋精準修正膜層
5. 有效镀膜面積：直徑90mm
6. 基板放置尺寸和片数：直徑＜90mm ×7 pcs
7. Macleod Simulation

  Application：  

• 5G光通訊產業
• 3D Sensing- IR Cut/濾藍光
• 3D 紅外窄帶帶通濾光片
• 3D人臉辨識紅外濾光片

1. Cluster PVD Series
2. GaAs 、GaN、 SiC 元件EMI鍍膜 
3. Metal / ITO、AZO、金屬氧化物、非金屬氧化物鍍膜
4. 可搭配表面改質、清潔及緻密離子源模組 
5. 工作溫度：常溫~450°C

 Application： 

• 用於5G光通訊、半導體、顯示器面板、觸控面板及光學鍍膜觸控面板OGS 關鍵設備及製程等產業的各類玻璃基板及軟性基板
• 手機、平板、筆記型電腦應用

1. BSVL PVD Series
2. 半導體Metal 電極、MEMS鍍膜SiO2、SiNx、Metal及金屬氧化物
3. ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 鍍膜
4. Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR

 Application： 

• 用於半導體、被動元件、顯示器面板、觸控面板及光學鍍膜觸控面板OGS 關鍵設備及製程等產業的各類玻璃基板及軟性基板
• 手機、平板、筆記型電腦、大尺寸電視應用

1. R2R PVD Series
2. ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 鍍膜
3. Index Matching + ITO Film
4. 專業真空鍍膜技術關鍵模組
5. 自主技術線上即時光學監測及校準模組
6. 低溫製程技術

  Application：  

• 醫療用抗菌奈米銀產業、柔性電池產業及柔性電路板產業
• 節能膜、抗反射膜、高反射膜、抗反射保護膜
• 柔性電池、柔性太陽能(CIGS/OLED)、顯示器

1. ASH PVD Series
2. CIGS / Metal / AZO / AL Film 鍍膜
3. Index Matching + ITO Film

Application：

• 用於太陽能、EMI、裝飾鍍膜等關鍵設備及製程等產業的各類玻璃基板及塑膠基板
• 手機、平板、筆記型電腦、大尺寸電視應用

1. ASV PVD Series
2. ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 鍍膜
3. Index Matching + ITO Film
4. Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR / 12AR
5. 可單面或雙面同時成膜

Application：

• 用於顯示器面板、觸控面板及光學鍍膜觸控面板OGS 關鍵設備及製程等產業的各類玻璃基板及軟性基板
• 手機、平板、筆記型電腦、大尺寸電視應用

1. AST PVD Series
2. ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 鍍膜
3. Index Matching + ITO Film
4. Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR / 12AR

 Application： 

• 用於顯示器面板、觸控面板及光學鍍膜觸控面板OGS 關鍵設備及製程等產業的各類玻璃基板及軟性基板
• 手機、平板、筆記型電腦、大尺寸電視應用

1. ASVRU PVD Series
2. ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 鍍膜
3. Index Matching + ITO Film
4. Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR / 12AR

  Application：  

• 用於顯示器面板、觸控面板及光學鍍膜觸控面板OGS 關鍵設備及製程等產業的各類玻璃基板及軟性基板
• 手機、平板、筆記型電腦、大尺寸電視應用

1. Cluster CVD Series
2. 工作溫度：常溫~350°C
3. 電源可搭配MF、RF、DC及Micro Wave Power Supply
4. SiOx、 Al2O3 、SiNx、a-Si…等其他薄膜
5. 可搭配表面改質、清潔及緻密離子源模組
6. 不同形狀的均勻沉積與良好的覆蓋率
7. 高鍍膜速率
8. 搭配電漿光譜分析儀做製程電漿監控及控制

  Application：   

•  5G光通訊 、半導體、TFT及太陽能電池吸收層等產業
• 防刮顯示螢幕
• 封裝層、絕緣層
• 產品的耐磨薄膜

1. ASH CVD Series
2. 溫度範圍：常溫~300 °C
3. 熱裂解反應鍍率快速
4. SiOx、 Al2O3 、SiNx、a-Si、TCO…等其他薄膜
5. 階梯覆蓋能力強和高純度沉積
6. 可處理大面積基板

  Application：  

•  半導體、TFT及太陽能電池電極層等產業 
• OLED面板Mask Frame保護層應用

• 二維條碼讀取
• 快速搜尋特徵點位置
• CCD自動搜尋特徵點，進行測試夾頭XY軸及θ角補正定位
• 定位精度±0.02mm

• 採用高精JAPAN UNIX焊鍚模組
• 線馬雙動子，安裝雙焊鍚模組，可安裝不同焊接頭，進行不同型式的焊接，分工動作，提高產能
• 快速搜尋特徵點位置
• CCD自動搜尋特徵點，進行焊接頭XY軸及θ角補正定位
• 定位精度±0.02mm
• 焊後CCD外型檢查
• 鐳射高度搜描檢查
• 焊後電訊檢查