真空PVDコーティング装置

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1. IBSPVDシリーズ
2. 高エネルギーイオン源（イオンビーム）を使用してフィルムに衝撃を与えます
3. 表面改質、洗浄、コンパクトなイオン源モジュールで使用できます
4.   フィルムを正確に修正するための光学的リアルタイムモニタリング（リアルタイムモニター）フィードバック付き
5. 有効コーティング面積：直径90mm
6. 配置サイズと基板数：直径<90mm×7個
7. マクラウドシミュレーション

 申し込み：  

• 5G光通信業界
• 3Dセンシング-IRカット/ブルーライトフィルター
• 3D赤外線狭帯域パスフィルター
• 3D顔認識赤外線フィルター

1. クラスターPVDシリーズ
2. GaAs、GaN、SiCコンポーネントEMIコーティング
3. 金属/ ITO、AZO、金属酸化物、非金属酸化物コーティング
4. 表面改質、洗浄、コンパクトなイオン源モジュールで使用できます
5. 使用温度：室温〜450°C

 申し込み：   

• 5G光通信、半導体、ディスプレイパネル、タッチパネル、光学コーティングタッチパネルなどの業界で使用されるあらゆる種類のガラス基板とフレキシブル基板OGSの主要機器と製造プロセス
• 携帯電話、タブレット、ノートブックコンピュータアプリケーション

1. BSVLPVDシリーズ
2. 半導体金属電極、MEMSコーティングSiO2、SiNx、金属および金属酸化物
3. ITO /金属/ SiO2 + ITOフィルムコーティング
4. 反射防止-2AR / 4AR / 6AR

 申し込み：   

• 半導体、受動部品、ディスプレイパネル、タッチパネル、光学コーティングタッチパネルなどの業界で使用されるさまざまなガラス基板とフレキシブル基板OGSの主要機器と製造プロセス
• 携帯電話、タブレット、ラップトップ、大型TVアプリケーション

1. R2RPVDシリーズ
2. ITO /金属/ SiO2 + ITOフィルムコーティング
3. インデックスマッチング+ ITOフィルム
4. プロの真空コーティング技術の主要モジュール
5. 独立したテクノロジーのオンラインリアルタイム光学モニタリングおよびキャリブレーションモジュール
6. 低温プロセス技術

  申し込み：   

• 医療用抗菌ナノ銀産業、フレキシブルバッテリー産業、フレキシブル回路基板産業
• 省エネフィルム、反射防止フィルム、高反射フィルム、反射防止保護フィルム
• フレキシブルバッテリー、フレキシブルソーラー（CIGS / OLED）、ディスプレイ

1. ASHPVDシリーズ
2. CIGS /メタル/ AZO / ALフィルム鍍膜
3. インデックスマッチング+ ITOフィルム

 申し込み：  

• 太陽エネルギー、EMI、装飾コーティング、その他の主要機器および製造プロセスなどの業界で使用されるさまざまなガラス基板およびプラスチック基板
• 携帯電話、タブレット、ラップトップ、大型TVアプリケーション

1. ASVPVDシリーズ
2. ITO /金属/ SiO2 + ITOフィルムコーティング
3. インデックスマッチング+ ITOフィルム
4. 反射防止-2AR / 4AR / 6AR / 12AR
5. フィルムは片面または両面に同時に形成できます

 申し込み：  

• ディスプレイパネル、タッチパネル、光学コーティングタッチパネルなどの業界で使用されるさまざまなガラス基板とフレキシブル基板OGSの主要機器と製造プロセス
• 携帯電話、タブレット、ラップトップ、大型TVアプリケーション

1. ASTPVDシリーズ
2. ITO /金属/ SiO2 + ITOフィルム鍍膜
3. インデックスマッチング+この映画
4. 反射防止-2AR / 4AR / 6AR / 12AR

  申し込み：  

• ディスプレイパネル、タッチパネル、光学コーティングタッチパネルなどの業界で使用されるさまざまなガラス基板とフレキシブル基板OGSの主要機器と製造プロセス
• 携帯電話、タブレット、ラップトップ、大型TVアプリケーション

1. ASVRUPVDシリーズ
2. ITO /金属/ SiO2 + ITOフィルム鍍膜
3. インデックスマッチング+この映画
4. 反射防止-2AR / 4AR / 6AR / 12AR

   申し込み：    

• ディスプレイパネル、タッチパネル、光学コーティングタッチパネルなどの業界で使用されるさまざまなガラス基板とフレキシブル基板OGSの主要機器と製造プロセス
• 携帯電話、タブレット、ラップトップ、大型TVアプリケーション

1. クラスターCVDシリーズ
2. 使用温度：常温〜350°C
3. 電源はMF、RF、DC、マイクロ波電源と組み合わせることができます
4. SiOx、Al2O3、SiNx、a-Si ...およびその他のフィルム
5. 表面改質、洗浄、コンパクトなイオン源モジュールで使用できます
6. さまざまな形状の均一な堆積と良好なカバレッジ
7. 高いコーティング率
8. プロセスプラズマの監視と制御のためのプラズマスペクトラムアナライザー付き

 申し込み：     

• 5G光通信、半導体、TFTおよび太陽電池吸収層およびその他の産業
• 傷のつきにくいディスプレイ画面
• カプセル化層、絶縁層
• 製品の耐摩耗性フィルム

1. ASHCVDシリーズ
2. 温度範囲：常温〜300°C
3. 速い熱分解反応めっき速度
4. SiOx、Al2O3、SiNx、a-Si、TCO ...およびその他のフィルム
5. 強力なステップカバレッジと高純度の堆積
6. 大面積の基板を処理できます

  申し込み：  

• 半導体、TFT、太陽電池電極層産業
• OLEDパネルマスクフレーム保護層アプリケーション

• 2Dバーコード読み取り
• 特徴点の場所をすばやく検索する
• CCDは自動的に特徴点を検索し、テストチャックのXY軸とシータ角度を修正して特定します。
• 位置決め精度±0.02mm

• 高精度JAPANUNIX溶接モジュールを採用
• ラインホースダブルムーバー、ダブル溶接モジュールの取り付け、さまざまな溶接ヘッドの取り付け、さまざまな種類の溶接の実行、分業、生産能力の向上
• 特徴点の場所をすばやく検索する
• CCDは自動的に特徴点を検索し、溶接ヘッドのXY軸とθ角度を修正して特定します。
• 位置決め精度±0.02mm
• 溶接後のCCD外観検査
• レーザー高さの検索とスキャン
• 溶接後の電気通信検査