競争上の優位性
技術チームの能力
- 15年以上のサービスチーム
- メンテナンスステータスに関するクイックフィードバックメンテナンスステータスに関するクイックフィードバック
- カスタマイズされたサービス、柔軟なアプリケーション
- 優れた機器品質と安定性
- 組立試験技術
- シミュレーションは、参照用の関連技術情報を提供します
- 作業時間を短縮するための事前検出を設計する
- カスタマイズされた関連技術図面データを提供します
- クイックリリースバージョン管理
- 3D図面分析面
3D図面デザイン
- メカニズム3D描画ソフトウェアの設計
- 高効率のトランスファーキャリア設計
- 使用率を向上させるための機器の迅速なメンテナンス
- PDMバージョン管理
工学シミュレーション
工学シミュレーション
- キャビティ応力場シミュレーション
- 電気加熱管の温度場のシミュレーション
- 流れ場シミュレーション
- 磁場シミュレーション
マンマシングラフィックコントロール/ PLC
マンマシングラフィックコントロール/ PLC
マンマシングラフィックコントロール/ PLC
- カスタマイズされたソフトウェアとハードウェアの設計計画
- クライアントの生産管理システムを統合する
- マンマシングラフィック制御システムは操作が簡単です
- プロの回路設計と配線アセンブリ
- システムのモジュラー設計と計画、優れたスケーラビリティ
自動化統合テクノロジー
マンマシングラフィックコントロール/ PLC
マンマシングラフィックコントロール/ PLC
- 安定した効率的な生産と高い利用率を実現するための自動マッチングと統合
- XMLサービスとネットワークアーキテクチャの使用による情報統合、およびPLCデータベースの収集。これにより、すべての機器を効果的かつ自動的に制御できます。
- 複数のコンピューターを使用して、オンライン生産情報を更新し、生産操作を制御します
- 経験をすばやく蓄積するための定期的な教育とトレーニング
プロセス技術
マンマシングラフィックコントロール/ PLC
プロセス技術
- 半導体金属酸化物、金属およびEMIコーティングプロセス
- 光学PVDコーティングプロセス
- タッチパネルPVDコーティングプロセス
- 低EPVDコーティングプロセス
- 太陽電池PECVD、PVD、LPCVD蒸着、スパッタリングプロセス
- エレクトロクロミックPVDコーティングプロセス
プロセス技術
半導体金属酸化物、金属およびEMIコーティングプロセス
半導体金属酸化物、金属およびEMIコーティングプロセス
半導体金属酸化物、金属およびEMIコーティングプロセス
- 反電磁干渉EMIまたは熱放散金属PVDコーティングプロセスおよび機器技術
- 金属コーティング材料は、Ti、Ag、Cu、Alなどを使用できます。
- 金属酸化物コーティング材料は、SiO2、TaO、TaN、LNO、SiNxなどを使用できます。
- 金属ハードシェル基板の使用に加えて、フレキシブルボード、ABF、アルミホイル、PET、PI ...なども使用できます。
光PVDスパッタリングプロセス
半導体金属酸化物、金属およびEMIコーティングプロセス
半導体金属酸化物、金属およびEMIコーティングプロセス
- IBS（Ion Beam Sputter）を使用し、光リアルタイムモニタリング（Real Time Monitor）を備えた光通信フィルタリング遠赤外線およびグリーンフィルターコーティングプロセスは、数十から数百のAR構造の層でコーティングできます。
- AR（反射防止ガラス）高透過率および反射防止コーティングプロセスおよび機器技術（片面または両面コーティングを使用できます）
- AR光学フィルムは主に高屈折率材料Nb2Oxでできており、低屈折率材料SiO2、2層AR、4層AR、6層ARは、お客様の光学仕様（T％、R％、Lab *）に応じて選択できます。
- ブルーライトフィルターコーティングプロセスおよび機器技術（自動車用バックミラーHUDに適用可能）
タッチパネルPVDプロセス
エレクトロクロミックPVDプロセス
エレクトロクロミックPVDプロセス
- TPS（抵抗性および容量性電極）のITOプロセスおよび機器技術
- ガラス基板またはフレキシブル基板に適しています
- Nb2Ox / SiO2光学フィルムとともに使用して、アンチシャドウ効果を調整できます（低b *のインデックスマッチレイヤー）
- 金属電極製造工程（金属層Mo / AL / Mo、Cu）
エレクトロクロミックPVDプロセス
エレクトロクロミックPVDプロセス
エレクトロクロミックPVDプロセス
- IECエレクトロクロミックカソードカラー層（WO3、Nb2Ox ..）およびアノードカラー層（NiOx）、透明導電層（ITO）プロセスおよび機器技術（インラインPVDまたはロールツーロールPVDを使用）
- PDLCポリマー液晶エレクトロクロミック透明導電層ITOコーティングプロセスおよび装置技術（インラインPVDまたはロールツーロールPVDを使用）
太陽電池PECVD、PVD、LPCVD蒸着、スパッタリングプロセス
太陽電池PECVD、PVD、LPCVD蒸着、スパッタリングプロセス
太陽電池PECVD、PVD、LPCVD蒸着、スパッタリングプロセス
- PVSKペロブスカイト高効率バッテリーコーティングプロセス（インラインPVDおよびRPD）
- 単結晶HITPECVD + ITO PVDプロセスおよび装置技術（クラスターPECVDおよびインライン両面コーティング設計）
- 高効率PECVDプロセスおよび機器技術
- 薄膜太陽電池前面電極（i-ZnO / BZO、AZO）プロセスおよび装置技術（LPCVD、PVD大量生産装置を提供できます）
- 薄膜太陽電池背面電極（AZO、AL、Ag、NiCr ...）プロセスおよび機器技術（太陽電池のシングルジャンクションおよびダブルジャンクションプロセスのマッチング選択に依存）
- CIGS薄膜太陽電池PVDプロセスおよび機器技術（Mo、CuGa、In ... PVD大量生産機器を提供できます
低EPVDプロセス
太陽電池PECVD、PVD、LPCVD蒸着、スパッタリングプロセス
太陽電池PECVD、PVD、LPCVD蒸着、スパッタリングプロセス
- シングルシルバー、ダブルシルバー、トリプルシルバーコーティングプロセスおよび機器技術（強化構造の有無にかかわらずオプション）
- Low Eガラスのすべての層（Ag、NiCr、SnO2、SiNxなど）を単一のデバイスで完成させることができるワンストップ連続スパッタリングシステム
- 可視光の高透過率と赤外線セクションの高反射率は、高断熱、環境保護、省エネの要件を満たしています